作者：Hmphteys,F.J.與M. Hatherly，出處：《再結晶與相關退火現象》，出版社：Oxford:Elsevier,1996
Humphreys, F. J., and M. Hatherly. Recrystallization and Related Annealing Phenomena. Oxford: Elsevier, 1996.

作者：Krill, C. E.Ⅲ與L. Chen.，出處：〈使用相區模型下的3D立體晶體成長電腦模擬〉於《材料學刊》50(2002):3057-3073
Krill, C. E. III, and L. -Q. Chen. "Computer Simulation of 3-D Grain Growth Using a Phase-Field Model." Acta Materialia 50 (2002): 3057-3073.

作者：Cahn,J.W.，出處：〈晶界移動的雜質拖曳效果〉於《金屬學報》10(1962):789-798
Cahn, J. W. "The Impurity-Drag Effect in Grain Boundary Motion." Acta Metall 10 (1962): 789-798.

作者：Lcke,K.與 H.P.Stew，編者：L. Himmel，出處：〈金屬的回收與再結晶〉於《科學會報》171(1963)
Lcke, K. and H. P. Stwe. "Recovery and Recrystallization in Metals." L. Himmel, ed. Interscience Publications 171 (1963).

參考資料B
References B

作者：Zener,C. J. ，出處：〈固溶球面析出物的成長理論〉於《應用物理期刊》20 (1949): 950.
Zener, C. J. Theory of Growth of Spherical Precipitates From Solid Solution." J. Appl. Phys. 20 (1949): 950.

作者：Greenwood,G..W.，出處：〈溶解中發散析出物的成長〉於《金屬學報》4(1956):243-248
Greenwood, G. W. "The Growth of Dispersed Precipitates in Solution." Acta Metall 4 (1956): 243-248.

作者：Bjklund,S.L.F. Donaghey與M. Hillert.，出處：〈合金元素對鋼鐵中雪明碳鐵奧斯華特熟化速度的影響〉於《金屬學報》20 (1972): 867-874.，編者註：Ostwald Ripening 為材料處理的一種過程。介金屬化合物為了降低自由能，使的大晶粒的介金屬化合物持續成長，而小晶粒的介金屬化合物則消失。
Bjrklund, S. L. F. Donaghey, and M. Hillert. "The Effect of Alloying Elements on the Rate of Ostwald Ripening of Cementite in Steel." Acta Metall 20 (1972): 867-874.

作者：Bhattacharyya,S.K.與K.C.Russel.，出處：〈化合析出物粗化活動能量〉於《金屬會報》3A(1972):3195-2199
Bhattacharyya, S. K., and K. C. Russell. "Activation Energies for the Coarsening of Compound Precipitates." Met. Trans. 3A (1972): 2195-2199.

參考資料C
References C

作者：Karo,M.T.Mori與L.H.Schwartz.，出處：〈藉旋節調整結構固化〉於《金屬學報》28 (1981):285-290
Karo, M. T. Mori, and L. H. Schwartz. "Hardening By Spinodally Modulated Structure." Aca Metall 28 (1981): 285-290.

參考資料D
References D

作者：Smith,W. F.，出處：《工程合金的結構和設計》，出版社：McGraw-Hill,1981,Ch.5and10.
Smith, W. F. Structure and Properties of Engineering Alloys. McGraw-Hill, 1981, ch. 5, and 10.

參考資料E
References E

作者：Thompson,C.V.與J. R. Lloyd.，出處：〈電子移動和積體電路互繫〉於《材料科學學會公佈》1993年12月：19-25
Thompson, C. V., and J. R. Lloyd. "Electromigration and IC Interconnects." MRS Bulletin (December 1993): 19-25.

作者：McHenry, M.E.與D.E. Laughlin.，出處：〈奈米級材料在未來磁力應用的發展〉於《Acta Mater》 48(2000):223-238.
McHenry, M. E., and D. E. Laughlin. "Nano-Scale Materials Development For Future Magnetic Applications." Acta Mater 48 (2000): 223-238.